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   “具体来说呢，就是首先打开锡液发生器，使锡液滴落入真空室里，脉冲式高功率激光器启动，击中从旁飞过的锡液滴，频率为每秒五万次，目地是使锡液气化。”

    “气化瞬间，锡原子被快速电离，产生高强度的等离子体，这时候，收集镜会捕获等离子体发出的辐射，汇聚形成光源，将集中起来的光源传递至光刻系统，经过放大，调整，物镜的折射，最终曝光在硅晶片之上。”